高(gao)低溫試驗箱(xiang)在開展實驗時的實際濕度達不(bu)到100%。

緣故和清除(chu)(chu)方式:可能(neng)是(shi)濕(shi)球(qiu)感(gan)應器(qi)上的(de)紗(sha)布(bu)干(gan)躁而致，需(xu)查(cha)驗濕(shi)球(qiu)感(gan)應器(qi)的(de)不(bu)銹(xiu)(xiu)鋼水(shui)(shui)(shui)槽是(shi)不(bu)是(shi)有干(gan)燥的(de)狀況。不(bu)銹(xiu)(xiu)鋼水(shui)(shui)(shui)槽中(zhong)的(de)水(shui)(shui)(shui)位(wei)是(shi)由水(shui)(shui)(shui)位(wei)控(kong)(kong)(kong)制器(qi)來自動控(kong)(kong)(kong)制系(xi)統。查(cha)驗水(shui)(shui)(shui)位(wei)控(kong)(kong)(kong)制器(qi)的(de)恒壓供水(shui)(shui)(shui)系(xi)統是(shi)不(bu)是(shi)在一切(qie)正常供電，水(shui)(shui)(shui)位(wei)控(kong)(kong)(kong)制器(qi)是(shi)不(bu)是(shi)有一切(qie)正常工作中(zhong)。另一種(zhong)可能(neng)是(shi)因為(wei)使(shi)用時間長(chang)或所購水(shui)(shui)(shui)體(ti)純粹，濕(shi)球(qiu)紗(sha)布(bu)就會發硬，促進紗(sha)布(bu)不(bu)可以吸濕(shi)而變硬。以上狀況僅有拆換或清理紗(sha)布(bu)才可以清除(chu)(chu)。

實(shi)際濕(shi)度(du)與目標(biao)濕(shi)度(du)相距比較大，在(zai)高低溫箱(xiang)試驗箱(xiang)中標(biao)值(zhi)要低得多(duo)。

緣(yuan)(yuan)故和清除方(fang)式:導致這種情況的(de)(de)首要緣(yuan)(yuan)故是(shi)(shi)(shi)加(jia)(jia)濕(shi)系統軟件不(bu)工作中。要查驗(yan)加(jia)(jia)濕(shi)系統軟件的(de)(de)恒(heng)(heng)壓供水系統，恒(heng)(heng)壓供水系統是(shi)(shi)(shi)不(bu)是(shi)(shi)(shi)有一定(ding)量的(de)(de)水，操(cao)縱加(jia)(jia)濕(shi)加(jia)(jia)熱(re)爐水位(wei)的(de)(de)水位(wei)操(cao)縱是(shi)(shi)(shi)不(bu)是(shi)(shi)(shi)一切正常，加(jia)(jia)濕(shi)的(de)(de)水位(wei)是(shi)(shi)(shi)不(bu)是(shi)(shi)(shi)一切正常。

高低溫試驗箱在(zai)日后的(de)(de)運用(yong)全(quan)過程中，會由(you)于長期的(de)(de)運作而給機(ji)器(qi)設備(bei)(bei)產生(sheng)一些常見(jian)故障的(de)(de)產生(sheng)。在(zai)機(ji)器(qi)設備(bei)(bei)的(de)(de)檢修中為熱(re)管散熱(re)器(qi)理(li)應再次的(de)(de)開(kai)展擰緊(jin)與加溫元器(qi)件，對(dui)密封性的(de)(de)五金框對(dui)話框開(kai)展清理(li)工作中。有必(bi)須時(shi)，還必(bi)須對(dui)機(ji)械零件開(kai)展校(xiao)正、清理(li)與潤(run)化(hua)工作中，恢復正常后開(kai)展查驗、調節與紀錄。

需需注意的是∶當(dang)機器設(she)備的氣溫(wen)越高時(shi)，其超低溫(wen)就會(hui)越快，因而提議不(bu)必填(tian)補水(shui)份，為了防止對機械設(she)備導致(zhi)無端的損害。